电沉积Ni-W合金镀层的X射线光电子能谱分析
来源期刊：材料保护2002年第4期
论文作者：杨德庄 王金玉 王宙 许光宇
关键词：电沉积; Ni-W合金镀层; X射线光电子能谱;
摘 要：采用X射线光电子能谱(XPS)对电沉积Ni-W合金镀层表面膜进行了分析.研究结果表明,Ni-W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜,而钨的氧化作用远大于镍,Ni-W合金镀层中W含量的提高对耐蚀性起决定作用.
杨德庄1，王金玉2，王宙3，许光宇4
(1.哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江哈尔滨,150001;
2.哈尔滨工业大学应用化学系,黑龙江哈尔滨,150001;
3.大连大学表面工程中心,辽宁大连,116622;
4.江门市二轻中专学校,广东江门,529020)
摘要:采用X射线光电子能谱(XPS)对电沉积Ni-W合金镀层表面膜进行了分析.研究结果表明,Ni-W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜,而钨的氧化作用远大于镍,Ni-W合金镀层中W含量的提高对耐蚀性起决定作用.
关键词:电沉积; Ni-W合金镀层; X射线光电子能谱;
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