新型含三氰基呋喃受体的非线性光学材料合成及性能研究

来源期刊：功能材料2010年第8期

论文作者：唐翔 唐先忠 赵波 王洋

文章页码：1340 - 2688

关键词：非线性光学材料;三氰基呋喃;热性能;DFT;

摘    要：合成了2种含三氰基呋喃受体的新型非线性光学（NLO）生色团分子。利用元素分析、1H-NMR和FT-IR对这些分子的结构进行了表征。TGA测试结果表明这两种材料具有较好的热稳定性,其热分解温度（Td）最高达311℃。UV-Vis光谱表明材料具有较好的透光性。用DFT-B3LYP方法在6-31G基组下对分子的结构进行了优化并计算出其静态二阶极化率β值最高达5.9×10-28esu。