氟化物气相沉积制备钨涂层
来源期刊：硬质合金2003年第3期
论文作者：黄春良 李争显 杜继红 周慧
关键词：氟化物; 气相沉积; 钨;
摘 要：采用氟化物氢还原的方法制备钨涂层.结果显示涂层的厚度可达150微米以上,密度为理论密度的99%,纯度可达99.9%.采用扫描电境分析沉积层组织形貌,结果显示气相沉积钨是沿沉积方向上生成柱状晶体结构.
黄春良1，李争显1，杜继红1，周慧1
(1.西北有色金属研究院,西安,710016)
摘要:采用氟化物氢还原的方法制备钨涂层.结果显示涂层的厚度可达150微米以上,密度为理论密度的99%,纯度可达99.9%.采用扫描电境分析沉积层组织形貌,结果显示气相沉积钨是沿沉积方向上生成柱状晶体结构.
关键词:氟化物; 气相沉积; 钨;
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