热处理温度对WO3薄膜微观结构和光致变色性能的影响
来源期刊:稀有金属材料与工程2010年第S1期
论文作者:沈毅 颜莎宁 赵丽 曹元媛
文章页码:504 - 507
关键词:光致变色;WO3薄膜;热处理温度;
摘 要:以溶胶-凝胶浸渍提拉法制备WO3光致变色薄膜。用色差计表征了材料的光致变色特性,并结合XRD、AFM、SEM、TEM、UV-Vis等手段,研究了热处理温度变化对其微观结构及光致变色性能的影响。结果表明,WO3薄膜光致变色性能随热处理温度升高而增强。当温度为350℃时,色差达到最大值2.2462,这是因为传导电子浓度随温度的升高而增大,有利于光生电子和空穴的产生,且此时禁带宽度最窄,电子易被激发到导带。当温度为400℃时,晶粒粗大,比表面积减小,光致变色性能降低。温度升至450℃时,晶格发生畸变,不利于电子空穴对分离,光致变色性能进一步降低。
沈毅1,颜莎宁1,赵丽2,曹元媛1
1. 中国地质大学(武汉)2. 湖北大学
摘 要:以溶胶-凝胶浸渍提拉法制备WO3光致变色薄膜。用色差计表征了材料的光致变色特性,并结合XRD、AFM、SEM、TEM、UV-Vis等手段,研究了热处理温度变化对其微观结构及光致变色性能的影响。结果表明,WO3薄膜光致变色性能随热处理温度升高而增强。当温度为350℃时,色差达到最大值2.2462,这是因为传导电子浓度随温度的升高而增大,有利于光生电子和空穴的产生,且此时禁带宽度最窄,电子易被激发到导带。当温度为400℃时,晶粒粗大,比表面积减小,光致变色性能降低。温度升至450℃时,晶格发生畸变,不利于电子空穴对分离,光致变色性能进一步降低。
关键词:光致变色;WO3薄膜;热处理温度;