磁控溅射Ni_(56)Mn_(27)Ga_(17)高温形状记忆薄膜的马氏体相变与组织结构
来源期刊：功能材料2009年第11期
论文作者：蔡伟 高新成 夏法锋 刘超 牟海维 高智勇
关键词：Ni-Mn-Ga; 形状记忆合金; 薄膜; 磁控溅射; Ni-Mn-Ga; shape memory alloys; thin film; magnetron sputtering;
摘 要：采用磁控溅射方法制备了Ni_(56)Mn_(27)Ga_(17)高温形状记忆合金薄膜,研究了薄膜的马氏体相变行为和组织结构.试验结果表明,Ni_(56)Mn_(27)Ga_(17)薄膜马氏体相变开始温度高达584K,该薄膜室温下为非调制四方结构马氏体.透射电镜观察进一步表明,其马氏体亚结构为(111)I型孪晶.
蔡伟1，高新成2，夏法锋3，刘超4，牟海维4，高智勇1
(1.哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001;
2.大庆石油学院,现代教育技术中心,黑龙江,大庆,163318;
3.大庆石油学院,机械科学与工程学院,黑龙江,大庆,163318;
4.大庆石油学院,电子科学学院,黑龙江,大庆,163318)
摘要:采用磁控溅射方法制备了Ni_(56)Mn_(27)Ga_(17)高温形状记忆合金薄膜,研究了薄膜的马氏体相变行为和组织结构.试验结果表明,Ni_(56)Mn_(27)Ga_(17)薄膜马氏体相变开始温度高达584K,该薄膜室温下为非调制四方结构马氏体.透射电镜观察进一步表明,其马氏体亚结构为(111)I型孪晶.
关键词:Ni-Mn-Ga; 形状记忆合金; 薄膜; 磁控溅射; Ni-Mn-Ga; shape memory alloys; thin film; magnetron sputtering;
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