用基片曲率法测量薄膜应力
来源期刊：材料保护2003年第7期
论文作者：袁超 张同俊 安兵 崔昆
关键词：基片曲率法; 薄膜; 残余应力;
摘 要：采用基片曲率法设计和制作了一种测量薄膜应力的装置,它具有简单、无损伤、快速、易于操作、精度高的优点.使用该装置测量了射频磁控溅射镀制的Cu单层膜和Ag/Cu多层膜的应力,结果表明薄膜残余应力是均匀的,但随沉积条件不同而不同.Cu单层膜和Ag/Cu多层膜处于压应力状态,外加-200 V偏压时,Ag/Cu多层膜则转变为很小的拉应力状态.XRD表明Ag/Cu多层膜已结晶,呈现Ag(111)/Cu(111)择优取向.
袁超1，张同俊1，安兵1，崔昆1
(1.华中科技大学模具技术国家重点实验室,湖北,武汉,430074)
摘要:采用基片曲率法设计和制作了一种测量薄膜应力的装置,它具有简单、无损伤、快速、易于操作、精度高的优点.使用该装置测量了射频磁控溅射镀制的Cu单层膜和Ag/Cu多层膜的应力,结果表明薄膜残余应力是均匀的,但随沉积条件不同而不同.Cu单层膜和Ag/Cu多层膜处于压应力状态,外加-200 V偏压时,Ag/Cu多层膜则转变为很小的拉应力状态.XRD表明Ag/Cu多层膜已结晶,呈现Ag(111)/Cu(111)择优取向.
关键词:基片曲率法; 薄膜; 残余应力;
【全文内容正在添加中】
