PVD法渗Si制备6.5%Si高硅钢过程组织结构与性能演化研究
来源期刊：功能材料2015年第1期
论文作者：田广科 孙勇 孔令刚 毕晓昉
文章页码：1117 - 2244
关键词：6.5%Si高硅钢;磁控溅射;扩散;组织结构;磁性能;
摘 要：基于物理气相沉积（PVD）之直流磁控溅射镀膜技术在低硅钢薄板双面共沉积富Si膜,然后高温真空扩散处理使Si渗入低硅钢基体,提高基体含Si量。以沉积Fe5Si3膜+1 180℃×1h扩散为1回合增Si处理,研究了多回合循环增Si处理过程硅钢基体组织结构与性能的演化机理。采用光学显微镜对样品进行了金相分析,采用扫描电镜（SEM）观察了样品的微观组织形貌,并用能谱分析仪（EDS）进行成分分析。用X射线衍射仪（XRD）和透射电镜（TEM）表征了样品的结构特征。经过4回合循环增Si处理可将0.35mm厚低硅钢基体含Si量由3%提高到6.5%,且沿厚度方向Si浓度分布均匀。相比于初始态低硅钢基片,PVD法制成6.5%Si高硅钢中高频铁损值降低40%50%。
田广科1,2，孙勇1，孔令刚1，毕晓昉2
1. 兰州交通大学国家绿色镀膜工程中心2. 北京航空航天大学材料科学与工程学院
摘 要：基于物理气相沉积（PVD）之直流磁控溅射镀膜技术在低硅钢薄板双面共沉积富Si膜,然后高温真空扩散处理使Si渗入低硅钢基体,提高基体含Si量。以沉积Fe5Si3膜+1 180℃×1h扩散为1回合增Si处理,研究了多回合循环增Si处理过程硅钢基体组织结构与性能的演化机理。采用光学显微镜对样品进行了金相分析,采用扫描电镜（SEM）观察了样品的微观组织形貌,并用能谱分析仪（EDS）进行成分分析。用X射线衍射仪（XRD）和透射电镜（TEM）表征了样品的结构特征。经过4回合循环增Si处理可将0.35mm厚低硅钢基体含Si量由3%提高到6.5%,且沿厚度方向Si浓度分布均匀。相比于初始态低硅钢基片,PVD法制成6.5%Si高硅钢中高频铁损值降低40%50%。
关键词：6.5%Si高硅钢;磁控溅射;扩散;组织结构;磁性能;
