Si衬底上RF磁控溅射MgO薄膜的研究

侯捷，张丛春，杨春生，丁桂甫

上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室

摘 要：采用射频磁控溅射（rf magnetron sputte-ring）在Si（100）衬底上生长得到MgO薄膜。将在不同气压和Ar分压条件下得到的样品在氧气氛围下1000℃退火并进行X射线衍射（XRD）分析,结果表明,溅射总气压和O2分压影响MgO薄膜的择优取向,控制总气压和Ar分压可以控制MgO薄膜的晶格取向,Si衬底取向也对薄膜的择优取向产生影响。通过扫描电子显微镜（SEM）分析发现,MgO薄膜经过高温退火形成结晶并产生了表面裂纹。

关键词：射频磁控溅射;MgO;XRD;SEM;