Si_3N_4/Ni和Si_3N_4/Ni_3Al的界面固相反应
来源期刊：材料热处理学报2010年第2期
论文作者：汤文明 郑治祥 吴玉程 高建杰
关键词：Si_3N_4; Ni_3Al; 界面固相反应; 显微结构; 相组成; Si_3N_4; Ni_3Al; interfacial solid state reaction; microstructure; phase;
摘 要：使用扫描电子显微镜、电子能谱仪、X射线衍射等研究了在N_2气氛中1150℃×10 h等温热处理的Si_3N_4/Ni,Si_3N_4/Ni_3Al平面偶界面固相反应区的形貌、成分分布、显微结构及相组成.结果表明:Si_3N_4/Ni界面固相反应形成约20 μm厚的反应区,反应区主要由Ni_3Si构成,其中分布着大量细密的孔洞;而Si_2N_4/Ni_3Al界面固相反应形成约2 μm厚的反应区,反应区具有比Ni_3Al高得多的Al含量,反应区由NiAl及Ni_3Si构成.Si_3N_4/Ni_3Al具有比Si_3N_4/Ni高得多的界面化学相容性.
汤文明1，郑治祥1，吴玉程1，高建杰1
(1.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009)
摘要:使用扫描电子显微镜、电子能谱仪、X射线衍射等研究了在N_2气氛中1150℃×10 h等温热处理的Si_3N_4/Ni,Si_3N_4/Ni_3Al平面偶界面固相反应区的形貌、成分分布、显微结构及相组成.结果表明:Si_3N_4/Ni界面固相反应形成约20 μm厚的反应区,反应区主要由Ni_3Si构成,其中分布着大量细密的孔洞;而Si_2N_4/Ni_3Al界面固相反应形成约2 μm厚的反应区,反应区具有比Ni_3Al高得多的Al含量,反应区由NiAl及Ni_3Si构成.Si_3N_4/Ni_3Al具有比Si_3N_4/Ni高得多的界面化学相容性.
关键词:Si_3N_4; Ni_3Al; 界面固相反应; 显微结构; 相组成; Si_3N_4; Ni_3Al; interfacial solid state reaction; microstructure; phase;
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