反熔丝的研究与应用

来源期刊：材料导报2011年第11期

论文作者：王刚 李平 李威 张国俊 谢小东 姜晶

文章页码：30 - 33

关键词：反熔丝;氧化物-氮化物-氧化物;非晶硅;栅氧化层;反熔丝PROM;反熔丝FPGA;

摘    要：综述了ONO（氧化物-氮化物-氧化物）反熔丝、非晶硅（a-Si）反熔丝和栅氧化层反熔丝的制作工艺、性能参数及其优缺点,介绍了反熔丝器件包括反熔丝可编程只读存储器（PROM）和反熔丝现场可编程门阵列（FPGA）在器件应用、存储容量、可用门数、工作电压和抗辐射性能等方面的研究进展,指出了反熔丝以及反熔丝器件的4个主要发展趋势,即工艺兼容、高密度、有机/柔性和新材料。